中国が5nmプロセス対応EUV露光装置の試作機を開発か？、中国メディア報道 | TECH+（テックプラス） https://news.mynavi.jp/techplus/article/20230502-2670408/

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長春光学・精密機械・物理研究所は、すでに #2002y には中国初のEUVリソグラフィ原理確認装置を開発、0.75nm RMSよりも優れた波面収差を有する2ミラーEUVリソグラフィ対物レンズシステムの開発に成功していた。

その後も研究を続け、#2017y には32nmプロセス対応EUV露光装置の試作に成功。その後、5nm向けEUV露光装置の開発が行われてきた。

EUV光源は、長年にわたってハルビン工科大学で研究開発されており、現在は長春研究所と協業体制にあるという。

EUV露光装置向けの超精密マスク/シリコンウェハステージは、清華大学の朱玉教授が率いるチームが #2014y に開発し、長春研究所に納入したという。