➤ 從實驗室走向晶圓廠:量子位元製造技術的關鍵里程碑
✤ https://www.imec-int.com/en/press/world-first-imec-presents-quantum-dot-qubit-device-using-high-na-euv-lithography
總部位於比利時的研發樞紐 Imec 近日達成一項重大技術突破,成功利用高數值孔徑(High NA)極紫外光(EUV)微影技術,製造出量子點量子位元裝置。這項創新不僅證明瞭現有 CMOS 製造流程在量子硬體擴展上的可行性,更為未來工業級量子計算鋪平了道路。透過極精細的微影技術,Imec 將量子位元控制電極間的間隙縮小至僅 6 奈米,大幅提升了量子位元的運作穩定性與整合密度,使量子電腦從實驗室邁向大規模量產成為可能。
+ 這對於矽基量子電腦來說是巨大的轉折點,利用現有的 300mm 晶圓廠產能,量子計算的商用化速度將會遠超預期。
+ 將電極間隙縮小至 6 奈米且具備量產潛力,這
#半導體技術 #量子計算 #EUV 微影




